Institut / Ausstattung

Dickschichttechnik

Glastechnologie und Glasbläserei

Sputtertechnologien

thermische Bedampfung

Atomabsorptionsspektrometer(AAS)

UV/VIS-Spektralphotometer

Oberflächenplasmonenresonanz-Messsystem (SPR)

Fluoreszenzmikroskopie

Gaschromatograph (GC/MS)

Hochleistungsflüssigkeitschromatograph (HPLC)

Ionenchromatograph (IC)

Polarograph

FT-IR-Spektrometer zur Gasanalyse

FT-IR-Spektrometer zur chemischen Analyse im NIR/MIR

Elektrochemische Messplätze: Potentiostaten, Impedanzmesssysteme (EIS)

Thermische Analyse (Dilatometer, DTA/TG-Messsystem für thermische Analysen)

Viskosimeter

BET-Messgerät zur Oberflächenbestimmung

Porometer

Partikelgrößenanalysator

Röntgendiffraktometer (XRD)

µ – Röntgenfluorenszenzanalysator M4 Tornado (Bruker Nano GmbH, Berlin)

Coulometrischer Gasmessstand

Oxid-, SOL/GEL-, Hydrothermal- und Hochtemperatursynthesen

Pulver- und Pastentechnologien

Plasmabeglimmung

Planeten- und Fliehkraftkugelmühlen, Siebmaschine

Hydraulische und isostatische Pressen

Induktiver Schmelzofen

Rohröfen, Kammeröfen bis 1750°C

Vakuumtrockenschrank

Laborwaagen

S1 Labor

Fermentor

Microfluidizer

Gelelektrophorese

Zentrifugen

Sterilbänke

Phasenkontrastmikroskop

CO2-Inkubator

Inkubationsschüttler

Autoklaven

Tiefsttemperaturschränke (-80°C)

Gefriertrocknung

optische Lithographie

Laserlithographie

Elektronenstrahllithographie

LF-Arbeitsbank mit Hotplate und Spincoater

Rasterelektronenmikroskop mit energiedispersivem Röntgenspektrometer (REM,EDX)

Rastersondenmikroskop (Contact Mode SPM)

FT-IR-Mikroskop zur chemischen Analyse im NIR/MIR

Invertiertes Fluoreszenzmikroskop (Zeiss) mit digitaler Bildverarbeitung

Stereo- und Auflichtmikroskop mit digitaler Bildverarbeitung

Mechanische und elektrische Fertigungstechniken

Spaltschweißen

Wasserstrahltechnologie

Sandstrahler

Trenn und Schweißlaser

Beschriftungs- und Strukturierungslaser

3D-Drucker

Top